ASML planea lograr la producción en masa de la nueva generación de tecnología de litografía para grandes chips en 2033.

ASML ha anunciado que planea colaborar con sus principales clientes para desarrollar nuevas soluciones capaces de producir los equipos de fabricación de chips más avanzados, para satisfacer la demanda de grandes chips para centros de datos diseñados por compañías como Nvidia. Actualmente, las máquinas de litografía ultravioleta extrema (EUV) de ASML, ampliamente utilizadas, pueden fabricar chips de un tamaño máximo de aproximadamente 800 milímetros cuadrados. La próxima generación de máquinas EUV de “alta apertura numérica” de ASML podrá fabricar chips aún más precisos. Sin embargo, debido a que utilizan máscaras de menor tamaño, actualmente se enfrentan a limitaciones en el área máxima de los chips que pueden fabricar. ASML planea demostrar una línea de producción experimental que utilice máscaras de mayor tamaño en 2031, y conseguir que esta nueva tecnología pueda producirse a gran escala en 2033.