Fujifilm將大分工廠的半導體拋光後清潔劑產能提升三倍
Reuters2026/08/21 04:16顯示原文
- Fujifilm Holdings 已於日本大分工廠完成新的先進半導體材料生產大樓。
- 從2021財年至2024財年，投資金額超過1,000億日圓，以擴大全球多地區的半導體材料產能。
- 大分工廠後CMP清洗劑的產能將提升至三倍，以滿足與AI驅動之先進半導體製造相關的增長需求。
- 受益於整合型研磨液與清洗劑方案，預計至2030財年，後CMP清洗劑銷售額將較2024財年成長超過一倍。
- 新大樓設置太陽能板，以減少工廠運營產生的溫室氣體排放。
免責聲明： 本新聞簡報由Public Technologies (PUBT) 利用生成式人工智慧製作。雖然PUBT力求提供準確及及時的資訊，但本AI生成內容僅供參考，並不構成財務、投資或法律建議。Fujifilm Holdings Corporation 於2026年8月21日發布了用以生成本新聞簡報的原始內容，且對其中資訊負全部責任。
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