ASML 2033-yilda yangi avlod yirik chipli litografiya texnologiyasini ommaviy ishlab chiqarishni rejalashtirmoqda

ASML shuni ma'lum qildiki, u asosiy mijozlari bilan hamkorlikda eng ilg‘or chip ishlab chiqarish uskunalarini yaratishga qodir yangi rejalarni ishlab chiqishni rejalashtirmoqda, bu esa Nvidia kabi kompaniyalar tomonidan ishlab chiqilgan yirik ma'lumot markazi chiplariga bo‘lgan ehtiyojni qondirishga xizmat qiladi. Hozirda ASML tomonidan keng qo‘llaniladigan ultra-binafsha (EUV) litografiya mashinalari eng katta maydoni qariyb 800 kvadrat millimetr bo‘lgan chiplarni ishlab chiqara oladi va ASML tez orada "yuqori sonli aperturali" keyingi avlod EUV litografiya mashinasini ishga tushirish arafasida, bu esa yanada nozik chiplarni ishlab chiqarishga imkon beradi. Biroq, kichikroq niqob o‘lchamlari qo‘llanilayotgani sababli, hozirda ishlab chiqarilishi mumkin bo‘lgan chip maydoni bilan bog‘liq cheklovlar mavjud. ASML 2031-yilga kelib kattaroq o‘lchamdagi niqobdan foydalanadigan sinov ishlab chiqarish liniyasini namoyish qilishni va 2033-yilga kelib bu yangi texnologiyani ommaviy ishlab chiqarish uchun moslashtirishni rejalashtirmoqda.