ASML планує розробити нове рішення для виробництва більш великогабаритного обладнання для виготовлення передових чипів

ASML заявила, що планує співпрацювати з основними клієнтами для розробки нових рішень, здатних виробляти найсучасніше обладнання для виготовлення чипів, аби задовольнити потреби у великих чипах для дата-центрів, спроектованих такими компаніями, як Nvidia. Наразі виготовлені ASML ефективно застосовуються в екстремально-ультрафіолетових (EUV) літографічних машинах, які можуть виробляти чипи максимальною площею близько 800 квадратних міліметрів. Наступне покоління “з високою числовою апертурою” EUV-літографічних машин, яке скоро представить ASML, забезпечить ще більш точне виготовлення чипів. Однак через використання менших за розміром масок наразі існують обмеження щодо площі виготовлюваних чипів. ASML планує до 2031 року продемонструвати експериментальну виробничу лінію з масками більшого розміру, а до 2033 року надати цій новій технології можливість масштабованого масового виробництва.