ASML planeja desenvolver uma nova solução para produzir equipamentos avançados de fabricação de chips de maior área

A ASML afirmou que planeja colaborar com seus principais clientes para desenvolver novas soluções capazes de produzir equipamentos de fabricação de chips avançados, a fim de atender à demanda por chips de grandes data centers projetados por empresas como a Nvidia. Atualmente, as máquinas de litografia ultravioleta extrema (EUV) produzidas pela ASML, amplamente utilizadas, podem fabricar chips com uma área máxima de aproximadamente 800 milímetros quadrados. A nova geração de máquinas EUV de “alta abertura numérica” da ASML será capaz de fabricar chips ainda mais sofisticados. Contudo, devido ao uso de máscaras de menor tamanho, atualmente há limitações na área máxima dos chips que podem ser fabricados. A ASML planeja apresentar, até 2031, uma linha experimental de produção usando máscaras de maior dimensão e, até 2033, tornar essa nova tecnologia apta para produção em larga escala.