ASML i Samsung rozszerzają partnerstwo w zakresie technologii High NA EUV

03:33 AM EDT, 09/08/2026 (MT Newswires) -- ASML (ASML) oraz Samsung Electronics ogłosiły we wtorek, że rozszerzą swoją współpracę w celu rozwoju litografii High NA EUV oraz produkcji półprzewodników dla chipów nowej generacji. Firma poinformowała, że Samsung dołączy do branżowej inicjatywy mającej na celu opracowanie 12-calowych fotomasek dla systemów High NA EUV, co może zwiększyć wydajność produkcji chipów i obniżyć koszty w porównaniu z obecnym formatem 6-calowym. Dodano również, że Samsung planuje wykorzystać technologię High NA EUV od ASML w masowej produkcji DRAM do 2028 roku.