ASML at Samsung Palalawakin ang Pakikipagsosyo sa High NA EUV Technology

03:33 AM EDT, 09/08/2026 (MT Newswires) -- Sinabi ng ASML (ASML) at Samsung Electronics nitong Martes na palalawakin nila ang kanilang pakikipagtulungan para isulong ang High NA EUV lithography at paggawa ng semiconductor para sa mga susunod na henerasyon ng chips. Ayon sa kumpanya, sasali ang Samsung sa isang inisyatiba ng industriya upang bumuo ng 12-inch na photomasks para sa mga High NA EUV system, na maaaring magpataas ng kahusayan sa produksyon ng chip at magpababa ng gastos kumpara sa kasalukuyang 6-inch na format. Plano rin ng Samsung na gamitin ang High NA EUV technology ng ASML sa malakihang produksyon ng DRAM pagsapit ng 2028, dagdag pa nito.