サムスン電子が1.4nmの先端プロセス開発を加速し、Applied MaterialsおよびLam Researchとの協力を深化させていると報じられました。

```htmlGolden Ten Dataによると、6月30日、韓国メディアthe bellは現地時間26日に、Samsung Electronicsが1.4nm（SF1.4）プロセスノードの研究開発を再加速していると報道しました。この最先端プロセスは一時2027年の量産が計画されていましたが、ウェーハ委託製造事業の重点変更により、量産時期が2029年へと延期されました。同報道によれば、Samsung Electronicsは最近、Applied MaterialsやLam Researchなど主要な半導体装置企業とSF1.4プロセスの計画を共有し、上下流協力の実現を目指して同ノードに最適な装置構成を構築するためスタンダード装置のカスタマイズ版を含めて加速を図っています。Samsung ElectronicsはすでにASMLからHigh NA EUVリソグラフィ装置を導入しており、この機器はNRD-K半導体研究開発コンプレックスに設置されています。Samsung Electronicsにとって、High NA EUVリソグラフィ装置は最も早くてSF1.4ノードで生産に用いられる見込みです。```