ASML e Samsung ampliano la partnership sulla tecnologia High NA EUV

03:33 AM EDT, 09/08/2026 (MT Newswires) -- ASML (ASML) e Samsung Electronics hanno annunciato martedì che amplieranno la loro partnership per promuovere la litografia High NA EUV e la produzione di semiconduttori per chip di nuova generazione. L'azienda ha dichiarato che Samsung si unirà a uno sforzo industriale per sviluppare fotomaschere da 12 pollici per i sistemi High NA EUV, il che potrebbe migliorare l'efficienza della produzione di chip e ridurre i costi rispetto all'attuale formato da 6 pollici. Samsung prevede inoltre di utilizzare la tecnologia High NA EUV di ASML nella produzione su larga scala di DRAM entro il 2028.