ASML prevede di raggiungere la produzione di massa della nuova generazione di tecnologia di litografia per chip di grandi dimensioni entro il 2033.

ASML ha dichiarato di pianificare la collaborazione con i suoi principali clienti per sviluppare nuove soluzioni in grado di produrre apparecchiature avanzate per la produzione di chip, al fine di soddisfare la domanda di grandi chip per data center progettati da aziende come NVIDIA. Attualmente, la macchina litografica EUV prodotta da ASML e ampiamente utilizzata è in grado di realizzare chip della superficie massima di circa 800 millimetri quadrati; la prossima generazione di macchine litografiche EUV “ad alta apertura numerica” che ASML sta per lanciare potrà produrre chip ancora più sofisticati. Tuttavia, poiché utilizza maschere di dimensioni ridotte, la superficie dei chip realizzabili è attualmente limitata. ASML prevede di presentare una linea pilota di produzione con maschere di dimensioni maggiori entro il 2031 e di rendere questa nuova tecnologia adatta alla produzione di massa entro il 2033.