ASML planea desarrollar nuevas soluciones para producir equipos avanzados de fabricación de chips en superficies más grandes

ASML declaró que planea colaborar con sus principales clientes para desarrollar nuevas soluciones capaces de producir equipos de fabricación de chips más avanzados, a fin de satisfacer la demanda de chips de centros de datos de gran tamaño diseñados por empresas como Nvidia. Actualmente, las máquinas de litografía ultravioleta extrema (EUV) ampliamente utilizadas por ASML pueden fabricar chips de un tamaño máximo de aproximadamente 800 milímetros cuadrados. La próxima generación de máquinas de litografía EUV de “alta apertura numérica” que ASML está por lanzar permitirá fabricar chips aún más precisos. Sin embargo, debido a que utilizan máscaras de menor tamaño, actualmente existe una limitación en el área máxima de los chips que se pueden fabricar. ASML tiene previsto presentar en 2031 una línea de producción experimental con máscaras de mayor tamaño y, para 2033, lograr la capacidad de fabricar esta nueva tecnología a gran escala.