ASML und Samsung erweitern Partnerschaft im Bereich High-NA-EUV-Technologie

03:33 Uhr EDT, 08.09.2026 (MT Newswires) -- ASML (ASML) und Samsung Electronics gaben am Dienstag bekannt, dass sie ihre Partnerschaft ausbauen werden, um die High NA EUV-Lithografie sowie die Halbleiterfertigung für Chips der nächsten Generation voranzutreiben. Das Unternehmen teilte mit, dass Samsung sich einer branchenweiten Initiative anschließen wird, bei der 12-Zoll-Photomasken für High NA EUV-Systeme entwickelt werden, was die Effizienz der Chipproduktion steigern und die Kosten im Vergleich zum derzeitigen 6-Zoll-Format senken könnte. Samsung plant außerdem, die High NA EUV-Technologie von ASML bis 2028 in der Serienproduktion von DRAM einzusetzen, hieß es weiter.